發薪就能變強，我有十億員工！ 第669章

　　“非常抱歉讓大家看到這樣不愉快的場面，也感謝大家的理解，橙子幼兒園從創辦之初就秉持着平等、包容的理念。

　　無論孩子來自哪裏，家長從事什麼職業，我們都會一視同仁，用心呵護每一個孩子的成長。

　　在這裏，沒有所謂的‘高低之分’，只有對孩子的真心關愛。”

　　姚真的話剛說完，人羣裏立馬響起一陣熱烈的掌聲。

　　另一名本地人見狀，趕忙揚聲表態道：“剛纔那人說的一口洋涇浜，聽着就不像是地道的滬城人，大家犯不着把這話往心裏去，別影響了給孩子報名的心情。”

　　不少外地家長笑着點頭，剛纔因中年女人的話而起的鬱結，也漸漸散去。

　　接下來的幾天裏，橙子幼兒園的報名現場，每天都是人滿爲患的熱鬧景象。

　　原本計劃開放一週的報名通道，因爲前來報名的家長實在太多，僅僅不到三天就提前結束了。

　　橙子幼兒園的第一批入園學生，人數最終確定爲4217人。

　　招生過程極爲順利！

　　8月11日，橙子科技在官微發佈了一款名爲“小天才”的兒童智能手錶，擁有GPS定位、拍照、聊天和電話等核心功能。

　　售價499元，8月18日正式對外發售。

　　“對啊！小朋友有了拍照手機，家長也能放心不少。”

　　“橙子科技的小天才手錶，推出的太及時了！”

　　“才499元？一點都不貴！”

　　網友七嘴八舌地討論着。

　　畢竟這年頭，哪怕是一塊抹布，只要沾上‘兒童’兩個字，價格也得翻倍。

　　遠在燕京的周弘毅猛地一拍腦袋，嘴上說道：“我怎麼就沒想到呢？”

第670章 第二步：覆海！破曉 A220 EUV光刻機，陳總的新籌碼！

　　八月中旬，阿里巴巴IPO、金陵青奧會、奧氏體304、冰桶挑戰、古劍奇譚和鋒菲複合的熱度最高，

　　讓網友們滿心疑惑的是，陳延森就像憑空銷聲匿跡了似的，完全是一副查無此人的狀態。

　　距他上一次公開露面，還是月初時，參加橙子幼兒園的剪彩儀式。

　　“學前教育行業的勢力這麼大嗎？連前幾天的商界領袖峯會，森哥都沒參加。”

　　“我聽說陳延森被人打了黑槍，現在還在滬城六院躺着呢！”

　　“不對啊，我聽到的版本是陳總買賣愛情的時候被抓了，最少得關半個月！”

　　“666！樓上的哥們，你當森聯資本的1000多名法務是擺設啊？等着收律師函吧！”

　　“笑死，刪帖速度挺快呀！這是森聯資本出手了，還是他自己怕了？”

　　“森哥早被人暗殺了！下個月要是有他的公開露面，那肯定是替身！”

　　就在陳延森忙着推進EUV光刻機的研發進度時，網上關於他的謠言卻越傳越離譜。

　　據不完全統計，在網友的嘴裏，陳延森的死法包括但不僅限於槍殺、被車撞、遭毒殺、溺水身亡等。

　　最終還是森聯資本法務部聯合微博、今日頭條、鬥音、快手和微信等多家平臺，才把造謠的聲音給壓了下去。

　　而陳延森則在一週之內，就接到了老陳的三通電話，在確定自家兒子沒事後，扭頭便化身闢謠戰士，跑到網上跟散佈謠言的網友直接對線。

　　陳延森得知後，倒也沒有阻攔。

　　畢竟和人吵架，也能預防老年癡呆。

　　時間轉瞬即至，來到8月23日的傍晚。

　　盛夏的晚風，將星源科技研發中心的香樟樹吹得枝葉婆娑，沙沙作響。

　　最裏層的核心實驗室，此刻卻亮如白晝，空氣裏瀰漫着一種近乎凝固的熾熱。

　　時間的概念被恆定的溫度和溼度所模糊，唯一能感受到的流逝，是控制室屏幕上跳動的數字。

　　陳延森穿戴整齊，裹得嚴嚴實實，與梁勁松、林南、汪象朝和章延傑等人站在控制檯前，透過厚重的抗輻射玻璃，凝視着眼前的龐然大物。

　　儘管這臺EUV光刻機只是Alpha樣機，但金屬機身在冷光燈下泛着精密的銀輝，數不清的管線如脈絡般纏繞，核心腔室的觀察窗透出淡紫色的微光。

　　EUV光源、光學系統和雙工件臺的技術天塹，竟被他們一個接一個地成功攻克。

　　大廳裏異常安靜，只能聽到通風系統低沉的嗡鳴。

　　工程師們穿着全套無塵潔淨服，像手術室裏的醫生，在設備周圍輕緩走動，進行着最後的檢查。

　　“老闆，各分系統自檢完畢，真空機組隨時可以啓動。”

　　林南的聲音略帶沙啞，衝着陳延森彙報道。

　　陳延森點了點頭道：“按計劃執行，逐步建立光路真空。”

　　命令下達後，控制室內的氣氛瞬間繃緊。

　　巨大的真空泵組開始工作，發出低沉的咆哮。

　　顯示屏上，代表光路內部真空度的數字，呈現斷崖式的下跌趨勢：0.01 Pa、0.0001 Pa、0.000001 Pa，向着高真空邁進。

　　所有人的心都提到了嗓子眼！

　　極致的真空環境是EUV光源傳輸的前提，任何一個微小的泄漏，都會導致前功盡棄。

　　不知過了多久！

　　汪象朝突然大聲喊道：“真空度穩定在0.0000006帕斯卡！已達預設值！”

　　控制室內響起一陣輕微的、剋制的騷動，有人輕輕握了握拳。

　　第一步，成功了！

　　爲什麼EUV光刻機的光源系統、主腔體中的照明光學系統、成像光學系統、晶圓平臺模組、掩模搬吣＝M和晶圓搬吣＝M都得處於真空環境下？

　　這是因爲EUV光波長極短，極易被包括空氣在內的所有物質吸收。

　　在真空環境中，可最大限度減少氣體分子對EUV光的吸收和散射，從而確保光源能量能有效傳輸至後續光學系統。

　　若處於非真空環境，EUV光會在傳輸過程中大幅衰減，無法滿足光刻所需的能量強度。

　　這一模塊的核心技術，是由章延傑牽頭，聯合幾十名瀋陽光機所的工程師共同攻關拿下的。

　　因此，他比任何人都緊張，生怕出現紕漏，拖了團隊的後腿。

　　“啓動光源預熱，功率設定爲最低檔位。”

　　陳延森語氣平靜地宣佈下一道指令。

　　令人緊張的時刻到來！

　　這是星源科技馴服的第一頭猛獸——磁約束放電激發等離子體光源（MCDE-EUV光），即將被喚醒！

　　如果一切正常，它將用“電磁場”代替“激光”作爲激發和約束等離子體的手段，進而獲得微弱的、波長爲13.5納米的極深紫外光。

　　時間一分一秒地過去。

　　主監控屏上，一個原本平坦的基線，微微跳動了一下。

　　隨後，一個雖然微弱但清晰可辨的信號峯值，頑強地升了起來！

　　“有信號了！”一名年輕的研究員忍不住地喊了出來，聲音因激動而變得有些失真。

　　大家心裏清楚！

　　第一臺EUV光刻機對華國的重大戰略意義！

　　幾乎在同一時間，位於光路末端的EUV功率探測器，傳回了第一條數據：107瓦！

　　一個在ASML看來早已被甩在身後的數字，此刻卻讓整個控制室陷入了短暫的寂靜，隨即爆發出巨大的歡呼聲！

　　許多人下意識地擁抱在一起，眼眶瞬間紅了。

　　林南感覺自己的手都在微微顫抖，於是緊緊抓住欄杆，強迫自己冷靜下來。

　　陳延森倒是心態平穩，他抬手壓了壓，控制室裏的歡呼聲很快平息。

　　“提高功率檔位！”陳延森繼續說道。

　　EUV光刻機的功率直接決定單位時間內的晶圓處理數量，每一次曝光都需足夠的EUV光能量觸發光刻膠的光化學反應。

　　若光源功率低，需延長單次曝光時間或增加脈衝次數，才能滿足能量需求，導致單晶圓處理時間變長。

　　比如200W功率的機型每小時可處理約125片晶圓，而250W機型可提升至每小時170片，產能提升近40%。

　　技術差一點，就是差了一大截！

　　而且功率越高，單位晶圓的光刻成本就越低，規模化優勢就越強。

　　聞言，林南立刻收斂心神，右手在控制檯上快速滑動，目光緊盯着功率調節界面：“收到！當前目標檔位220瓦，升壓速率已調至安全閾值，避免等離子體不穩定。”

　　控制檯屏幕上，代表光源功率的數字開始緩慢爬升，每一個數值的跳動，控制室內的呼吸聲就跟着沉重一分。

　　137瓦、168瓦、214瓦……

　　當數字穩穩停在220瓦時，林南立即看向一旁的光源穩定性監測曲線。

　　那條代表等離子體約束狀態的綠色線條，始終保持着平穩的波動，沒有出現任何異常的尖峯或驟降。

　　系統咝蟹�定！

　　“功率穩定在220瓦！等離子體約束狀態良好，沒有出現能量泄漏！”

　　林南的聲音比剛纔響亮了幾分，緊繃的肩膀也稍稍放鬆了一些，臉上綻放出一抹旁人看不見的燦爛笑容。

　　作爲國產第一臺EUV光刻機的核心研發人員，那是妥妥能登上教科書、評院士、留名青史的人。

　　他連忙深吸了一口氣，強行控制住自己的情緒。

　　陳延森微微頷首，轉頭看向章延傑：“光學系統同步適配，檢查光束勻化效果。”

　　章延傑立馬調出照明光學模塊的實時數據，屏幕上彈出一組光束截面分佈圖。

　　淡紫色的光斑均勻地覆蓋在模擬掩模區域，邊緣沒有出現絲毫能量衰減的陰影。

　　“陳老師，光束勻化度99.2%，符合220瓦功率下的光學適配要求，成像光學系統已完成自動對焦校準！”

　　章延傑揚聲回應道。

　　這一次，控制室內的騷動比方纔更加明顯。

　　有人悄悄抹了把眼角，還有人用拳頭輕輕捶了下桌面。

　　從107瓦到220瓦，不僅僅是數字的提升，更是證明他們的MCDE-EUV光源既能“點亮”，也能在更高功率下保持穩定，這意味着量產的可能性又近了一步。

　　功率是制約工藝節點的重要因素！

　　製程微縮需實現更小的線寬和間距，要求EUV光具備更高的光學對比度，而功率是對比度的核心支撐。

　　220瓦的穩定功率，足以滿足7納米制程的芯片生產所需。

　　陳延森嗯了一聲，接着吩咐道：“準備晶圓臺與掩模臺同步測試，加載測試晶圓，按28納米制程參數設置曝光程序。”

　　汪象朝馬上響應：“測試晶圓已通過機械臂送入預對準工位，掩模臺已加載28納米標準電路掩模版，同步精度校準中。”

　　頃刻間，腥说囊暰�重新聚焦在主監控屏上。

　　屏幕被分成了四個畫面：左上角是光源功率與等離子體狀態，右上角是光學系統的光束分佈，左下角是晶圓臺的實時座標，右下角則是掩模臺的邉榆壽E。

　　隨着汪象朝按下按鈕，兩個精密平臺迅速移動，它們的邉榆壽E像兩條精準咬合的齒輪，每一次微調都控制在0.1納米以內。

　　“同步精度0.08納米！已達預設標準！”

　　汪象朝說道。

　　陳延森看了一眼時間，此刻是晚上8點37分，距離真空泵啓動已經過去了半個多小時。

　　他俯下身子，對着麥克風，向實驗室的工作人員叮囑道：“曝光開始，單次曝光時間設置爲0.5秒，記錄所有參數。”

　　核心腔室的觀察窗內，淡紫色的微光驟然亮了一下，旋即恢復柔和。

　　光路末端的探測器瘋狂刷新着數據，屏幕上跳出一行行代表“曝光能量密度”、“線寬均勻度”、“圖形套刻精度”的數值。

　　每一個數字都在朝着合格的方向靠近！

　　0.5秒的時間，卻像一個世紀那麼漫長。

　　當曝光完成的提示音在控制室內響起時，汪象朝立刻操控機械臂將測試晶圓移出，送往檢測室。

　　一行人都跟了過去，連腳步都變得急促起來。