作者：520农民
劃分是如此，但沐陽覺得，他這輩子，地球能不能達到一級文明都難說，只能說，未來可期。
而學識等級，一級文明初級學者，學識應該達到了職稱副教授、教授層次，或者世界一流專家級別，但這個並不關鍵，而是掌握了多少前沿科技知識。
如果僅僅是世界一流專家，但掌握的是傳統的知識，但依然達不到一級文明初級學者水平。
至於這樣劃分法合理不合理，沐陽覺得還比較合理的。
並不是說一級文明學者掌握的和知識量就比尚未達到一級文明的專家更淵博，而是指的是前沿知識，處於一級文明的知識量有多少。
就比如沐陽的學識，除了數學，沐陽覺得他的計算機能力並不比機械方面差，但在系統判斷時，計算機只能是初級。
這也是因爲，他掌握的編程方法，已經落後了，可能是他的一些新式算法比較先進，才達到一級文明初級學者。
而機械一類，哪怕文明再先進，很難發生大的革新。
如果不是金屬3D增材技術產生質的革新，星海集團目前的機械一類還是傳統機械。
沐陽其他學科未達到一級文明水平，也說得過去了。
第六點，多了3個功能：師徒功能、忠斩缺鎰e功能和危險預警功能。
而且，原來的“成就點商店”更新爲“系統商店”，分爲普通貨架和特殊貨架。
普通貨架大多是一級文明前的技術，還是可以通過成就點購買，成就點的獲得跟之前未沒有什麼區別。
而特殊貨架的獲得就比較難了，不可單純地通過成就點購買獲得。
沐陽打開普通貨架，輸入“可控核聚變技術”，並未找到相關技術，說明想單純地通過成就點購買不可能了。
而在特殊貨架裏，的確發現了這一項技術。
不過，要求真多，必須要達到某些指標才能解鎖，而不是直接獲得。
①核聚變技術和基礎設施；
②相關一級文明初級學者5人；
③宿主相關知識達到一級文明中級學者水平；
④閱讀系統達到8級。
這就是說，沐陽需要從普通貨架裏積累一級文明中級學者的知識，解鎖基礎技術。
光閱讀系統要達到8級，就不是他目前想要的；
而且，就算達到了8級，如果他沒有核聚變相關的技術，並具備相關技術人才5人，也是沒法解鎖。
但不管怎麼樣，總算看到了希望。
沐陽在特殊貨架裏也搜索到了一級文明初級宇宙飛船，那個要求就更多了，其中就有要求可控核聚變技術。
但想上天，想飛到月球，並不是說一定要有一級文明初級宇宙飛船，在普通貨架裏，已經可以買到航空發射火箭、衛星、太空站一類的技術，沒有什麼限制了，只要成就點足夠就行。
當然，需要的成就點也是比較多的。
沐陽再搜索增加壽命和駐顏一類的醫藥技術，發現需要解鎖生物醫藥一類技術，相關知識達到一級文明高級學者，還有各種苛刻的要求，還有很多灰色問號，說明他沒有具備資格繼續下一步查詢，畢竟沐陽在生物醫藥這方面沒有什麼發展，也沒有知識儲備。
但不管怎麼樣，總算看到了希望。
他希望父母繼續活下去，他父母已經四十幾歲，沐陽希望能在20年內獲得增加壽命的醫藥。
同時，如果進行宇宙飛行，壽命一類的藥物肯定是需要的。
目前，沐陽可搜索到的特殊貨物並不多。
但不管怎麼樣，系統商店給他帶來了很大的驚喜，比如他需要的芯片製造技術，已經可以繞過傳統EUV或DUV光刻機，不再擔憂技術封鎖問題；還有大飛機的航空發動機技術，也是可以用成就點買到了。
師徒功能，倒是可以解決了頂尖人才儲備要求。
如果只是把知識傳給公司員工，沐陽覺得他們很難達到一級文明初級學者的水平。
師徒功能，目前等級是LV1：0/5（每年自動增長5名，LV1最多認可10名）
目前最多可以認可5名弟子。
沐陽也可以招收幾十個學生培養，然後放羊式讓他們成長。
但是，他沒有那麼多精力去輔助那麼多學生，另外，不是系統認可的師徒關係，他沒法給弟子輸送學習經驗，學習就打折了。
這個經驗的作用，只能是促進弟子理解他講授的知識，並不能像他那樣可以直接用來提升技能，而且經驗值消耗速度是10倍。
也就是說，哪怕是師徒關係，如果沐陽不輔助學生，光靠學生自主學習的話，成長非常慢。
並沒有什麼BUFF光環，也許未來師徒功能等級高了會有，但目前並沒有什麼BUFF功能。
收師徒並不是很隨便，要求弟子年齡不得超過20歲，由於名額有限，沐陽就得好好規劃了。
師徒功能還可以查看年齡20歲以下年輕人的智力和潛力情況，方便他收徒。
同時，只要沐陽承認對方是自己弟子後，弟子對師傅的忠斩群芸爝_到90點以上；
忠斩茸罡郀�100點，90已經是非常厲害了。
普通人對沐陽的忠斩龋赡芫褪�30到60之間；
而忠斩鹊挽�30，已經存在敵意；
忠斩仍�10以下，恨不得沐陽去死，甚至想殺害沐陽。
如果沐陽自動解除師徒關係，徒弟從沐陽學到的知識，隨着時間的推移，可能一兩年時間內就會莫名其妙地遺忘。哪怕記錄下來了，再次學習也不是那麼好理解的。
這個忠斩裙δ芫陀悬c變態了，從此以後，沐陽也不用擔憂徒弟背叛自己，可以放心地教導他們前沿科技知識。
既然要求年齡低於20歲以下才能被收爲徒弟，那沐陽打算從高考生錄用。
他可以等高考過後，分數出來了，面向全國各省高考成績前列進行觀察，找到他滿意的徒弟，同時也不影響學生報考高校。
如果被沐陽錄用，只好轉到江浙大學學習。
可以說，只要成爲他的徒弟，不用再愁錢方面的事了。
第三個功能，忠斩缺鎰e功能。
這個也是非常地牛比，不需要花什麼錢和成就點，可以識別他人對自己的忠斩取�
沐陽還沒有去測試，但他相信肯定有一定的限制，不會讓他隨意地使用。
到底如何測試，通過什麼測試，沐陽也是搞不清楚原理，難道系統可以探測他人對自己的心理波動或腦電波？或者通過微表情進行分析？
如果是靠以上方法，好像還有些科學。
不過，有些東西，看上去不科學，但誰又能解釋得清楚呢，就比如這個閱讀系統。
這個功能對沐陽來說，作用也是非常大，他可以探測公司管理層對他的忠斩龋槐卦贀鷳n貪污之類的事再發生。
第四個功能是被動功能：危險預警功能。
沐陽沒有發現有解釋，也許當他觸發或即將遇到危險的時候纔會有系統提醒。
就是不知道，只是提醒有危險，能不能指引危險信號在哪裏，這都沒有說明。
沐陽希望，他這輩子都用不上。
界面的最後一行字，閱讀系統升到8級的要求。
沐陽打開詳情，看到三行字：
1）一座小型智能城市（詳細要求）；
2）10個弟子稱號達到一級文明初級水平；
3）？？？（灰色）
再次點開第一個要求的詳細要求，發現要求挺多的，這個智能城市不能隨便建立，要求是尚未開發人類居住的土地，比如建立在沙漠上、島嶼上。
對人口數量也有要求，而且居住人口的文化層次也有要求，再次就是城市的智能度，要求也多，比如交通、環境、物流等等。
本來，沐陽打算發展航空，肯定得找一片空曠的地方發展，不可能放在H城。
第二個要求，還好理解，具備師徒功能，沐陽感覺難度小了一些。
第三個要求，還是一片灰色，也查不到相關的要求。
從中可以看出來，沐陽想從7級升到8級，難度相當地大，五年之內，那不可能了。
綜合來看，7級閱讀系統跟以前變化非常大，跟錢已經關係不大了，更多的要求是引領全球科技發展方面，完全是新的開始。
這樣的新開始，沐陽感覺到激情澎湃，對未來充滿了期待。
第438章 光刻機項目：另闢蹊徑
沐陽研究更新後的閱讀系統兩個多小時才研究透，興奮得睡不着。
喝了一杯茶，他想看看芯片製造技術的核心設備：光刻機。
目前市場上，有兩種主流光刻機，一個是DUV光刻機，另一個是EUV光刻機。
DUV是深紫外線（Deep Ultraviolet Lithography），EUV是極深紫外線（Extreme Ultraviolet Lithography）。
從製程範圍來看，DUV基本上只能做到25nm，Intel憑藉雙工作臺的模式做到了10nm，但是卻無法達到10nm以下。
只有EUV能滿足10nm以下的晶圓製造，並且還可以向5nm、3nm繼續延伸。
這個線寬其實就是跟光的線寬有關係，比如可見光的G線，那就是436nm，如果用來刻蝕，線路肯定很寬。
可以簡單地認爲，光刻機的光系統其實就是一支畫筆，不同的光代表不同粗細大小的筆芯，越細的筆（光）能夠畫越細越複雜的畫。
DUV就是彩筆，EUV就是中性筆，中性筆畫的線條比較細，比較好用。
這麼理解，也好理解光刻機到底如何刻蝕電路圖了。
當前，國外品牌光刻機主要以荷藍ASML，島國Nikon和Canon三大品牌爲主。
EUV的價格是1-3億美金/臺，DUV的價格爲2000萬—5000萬美金/臺不等。
目前先進的光刻系統就是EUV光刻機，如果沐陽打算走EUV光刻機路線，必然繞不開別人的技術專利保護範圍。
因此，他只能尋找另外光種的光刻機，同時要考慮到光的分辨率、對準精度、曝光方式、光源波長、光強均勻性、生產效率等指標。
就說分辨率，如果製作出來的電路圖模糊不清，那芯片肯定不好。
光刻機其它的指標，也可以比喻成畫筆的性能就行了。
並不是說，沐陽不能搞光刻機了，只是說，再搞DUV和EUV光刻機，繞不開以上三家企業的技術專利保護範圍。
所以，他只能另闢蹊徑。
很久之前，沐陽就想到過電子束光刻機。
原本，再過幾年，漂亮國的一個實驗室研發出一套名爲ZyvexLitho1的光刻系統，基於STM掃描隧道顯微鏡，使用的是EBL（E-Beam Lithography）電子束光刻方式，製造出了0.7nm線寬的芯片，只是沒法實現批量生產，或者成本高過。
沐陽相信，如果是技術成熟的電子束光刻機，線寬比0.7nm更小。
他在系統商店普通貨架上默唸搜索“電子束光刻機”，很快，搜索出幾款相關技術。
沐陽選擇適合自己公司的一款技術：EBL01
技術參數：
1.最小線寬：小於1nm
2.加速電壓：5-500kV
3.電子束直徑：小於0.5nm
4.套刻精度：1nm（mean+0.2σ）
5.拼接精度：1nm（mean+0.2σ）
6.加工晶圓尺寸：4-18英寸
7.描電鏡分辨率：小於0.2nm
主要特點：
1.採用超高亮度和超高穩定性的TFE電子槍；
2.出色的電子束偏轉控制技術；
3.採用場尺寸調製技術，電子束定位分辨率可達0.0002nm；
4.採用軸對稱圖形書寫技術，圖形偏角分辨率可達0.002mrad；
5.應用領域廣泛，如微納器件加工，研究用掩膜製造，納米加工（例如單電子器件、量子器件製作等），高頻電子器件中的混合光刻，圖形線寬和圖形位移測量等。
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