作者：520农民
划分是如此，但沐阳觉得，他这辈子，地球能不能达到一级文明都难说，只能说，未来可期。
而学识等级，一级文明初级学者，学识应该达到了职称副教授、教授层次，或者世界一流专家级别，但这个并不关键，而是掌握了多少前沿科技知识。
如果仅仅是世界一流专家，但掌握的是传统的知识，但依然达不到一级文明初级学者水平。
至于这样划分法合理不合理，沐阳觉得还比较合理的。
并不是说一级文明学者掌握的和知识量就比尚未达到一级文明的专家更渊博，而是指的是前沿知识，处于一级文明的知识量有多少。
就比如沐阳的学识，除了数学，沐阳觉得他的计算机能力并不比机械方面差，但在系统判断时，计算机只能是初级。
这也是因为，他掌握的编程方法，已经落后了，可能是他的一些新式算法比较先进，才达到一级文明初级学者。
而机械一类，哪怕文明再先进，很难发生大的革新。
如果不是金属3D增材技术产生质的革新，星海集团目前的机械一类还是传统机械。
沐阳其他学科未达到一级文明水平，也说得过去了。
第六点，多了3个功能：师徒功能、忠诚度辨别功能和危险预警功能。
而且，原来的“成就点商店”更新为“系统商店”，分为普通货架和特殊货架。
普通货架大多是一级文明前的技术，还是可以通过成就点购买，成就点的获得跟之前未没有什么区别。
而特殊货架的获得就比较难了，不可单纯地通过成就点购买获得。
沐阳打开普通货架，输入“可控核聚变技术”，并未找到相关技术，说明想单纯地通过成就点购买不可能了。
而在特殊货架里，的确发现了这一项技术。
不过，要求真多，必须要达到某些指标才能解锁，而不是直接获得。
①核聚变技术和基础设施；
②相关一级文明初级学者5人；
③宿主相关知识达到一级文明中级学者水平；
④阅读系统达到8级。
这就是说，沐阳需要从普通货架里积累一级文明中级学者的知识，解锁基础技术。
光阅读系统要达到8级，就不是他目前想要的；
而且，就算达到了8级，如果他没有核聚变相关的技术，并具备相关技术人才5人，也是没法解锁。
但不管怎么样，总算看到了希望。
沐阳在特殊货架里也搜索到了一级文明初级宇宙飞船，那个要求就更多了，其中就有要求可控核聚变技术。
但想上天，想飞到月球，并不是说一定要有一级文明初级宇宙飞船，在普通货架里，已经可以买到航空发射火箭、卫星、太空站一类的技术，没有什么限制了，只要成就点足够就行。
当然，需要的成就点也是比较多的。
沐阳再搜索增加寿命和驻颜一类的医药技术，发现需要解锁生物医药一类技术，相关知识达到一级文明高级学者，还有各种苛刻的要求，还有很多灰色问号，说明他没有具备资格继续下一步查询，毕竟沐阳在生物医药这方面没有什么发展，也没有知识储备。
但不管怎么样，总算看到了希望。
他希望父母继续活下去，他父母已经四十几岁，沐阳希望能在20年内获得增加寿命的医药。
同时，如果进行宇宙飞行，寿命一类的药物肯定是需要的。
目前，沐阳可搜索到的特殊货物并不多。
但不管怎么样，系统商店给他带来了很大的惊喜，比如他需要的芯片制造技术，已经可以绕过传统EUV或DUV光刻机，不再担忧技术封锁问题；还有大飞机的航空发动机技术，也是可以用成就点买到了。
师徒功能，倒是可以解决了顶尖人才储备要求。
如果只是把知识传给公司员工，沐阳觉得他们很难达到一级文明初级学者的水平。
师徒功能，目前等级是LV1：0/5（每年自动增长5名，LV1最多认可10名）
目前最多可以认可5名弟子。
沐阳也可以招收几十个学生培养，然后放羊式让他们成长。
但是，他没有那么多精力去辅助那么多学生，另外，不是系统认可的师徒关系，他没法给弟子输送学习经验，学习就打折了。
这个经验的作用，只能是促进弟子理解他讲授的知识，并不能像他那样可以直接用来提升技能，而且经验值消耗速度是10倍。
也就是说，哪怕是师徒关系，如果沐阳不辅助学生，光靠学生自主学习的话，成长非常慢。
并没有什么BUFF光环，也许未来师徒功能等级高了会有，但目前并没有什么BUFF功能。
收师徒并不是很随便，要求弟子年龄不得超过20岁，由于名额有限，沐阳就得好好规划了。
师徒功能还可以查看年龄20岁以下年轻人的智力和潜力情况，方便他收徒。
同时，只要沐阳承认对方是自己弟子后，弟子对师傅的忠诚度很快达到90点以上；
忠诚度最高为100点，90已经是非常厉害了。
普通人对沐阳的忠诚度，可能就是30到60之间；
而忠诚度低于30，已经存在敌意；
忠诚度在10以下，恨不得沐阳去死，甚至想杀害沐阳。
如果沐阳自动解除师徒关系，徒弟从沐阳学到的知识，随着时间的推移，可能一两年时间内就会莫名其妙地遗忘。哪怕记录下来了，再次学习也不是那么好理解的。
这个忠诚度功能就有点变态了，从此以后，沐阳也不用担忧徒弟背叛自己，可以放心地教导他们前沿科技知识。
既然要求年龄低于20岁以下才能被收为徒弟，那沐阳打算从高考生录用。
他可以等高考过后，分数出来了，面向全国各省高考成绩前列进行观察，找到他满意的徒弟，同时也不影响学生报考高校。
如果被沐阳录用，只好转到江浙大学学习。
可以说，只要成为他的徒弟，不用再愁钱方面的事了。
第三个功能，忠诚度辨别功能。
这个也是非常地牛比，不需要花什么钱和成就点，可以识别他人对自己的忠诚度。
沐阳还没有去测试，但他相信肯定有一定的限制，不会让他随意地使用。
到底如何测试，通过什么测试，沐阳也是搞不清楚原理，难道系统可以探测他人对自己的心理波动或脑电波？或者通过微表情进行分析？
如果是靠以上方法，好像还有些科学。
不过，有些东西，看上去不科学，但谁又能解释得清楚呢，就比如这个阅读系统。
这个功能对沐阳来说，作用也是非常大，他可以探测公司管理层对他的忠诚度，不必再担忧贪污之类的事再发生。
第四个功能是被动功能：危险预警功能。
沐阳没有发现有解释，也许当他触发或即将遇到危险的时候才会有系统提醒。
就是不知道，只是提醒有危险，能不能指引危险信号在哪里，这都没有说明。
沐阳希望，他这辈子都用不上。
界面的最后一行字，阅读系统升到8级的要求。
沐阳打开详情，看到三行字：
1）一座小型智能城市（详细要求）；
2）10个弟子称号达到一级文明初级水平；
3）？？？（灰色）
再次点开第一个要求的详细要求，发现要求挺多的，这个智能城市不能随便建立，要求是尚未开发人类居住的土地，比如建立在沙漠上、岛屿上。
对人口数量也有要求，而且居住人口的文化层次也有要求，再次就是城市的智能度，要求也多，比如交通、环境、物流等等。
本来，沐阳打算发展航空，肯定得找一片空旷的地方发展，不可能放在H城。
第二个要求，还好理解，具备师徒功能，沐阳感觉难度小了一些。
第三个要求，还是一片灰色，也查不到相关的要求。
从中可以看出来，沐阳想从7级升到8级，难度相当地大，五年之内，那不可能了。
综合来看，7级阅读系统跟以前变化非常大，跟钱已经关系不大了，更多的要求是引领全球科技发展方面，完全是新的开始。
这样的新开始，沐阳感觉到激情澎湃，对未来充满了期待。
第438章 光刻机项目：另辟蹊径
沐阳研究更新后的阅读系统两个多小时才研究透，兴奋得睡不着。
喝了一杯茶，他想看看芯片制造技术的核心设备：光刻机。
目前市场上，有两种主流光刻机，一个是DUV光刻机，另一个是EUV光刻机。
DUV是深紫外线（Deep Ultraviolet Lithography），EUV是极深紫外线（Extreme Ultraviolet Lithography）。
从制程范围来看，DUV基本上只能做到25nm，Intel凭借双工作台的模式做到了10nm，但是却无法达到10nm以下。
只有EUV能满足10nm以下的晶圆制造，并且还可以向5nm、3nm继续延伸。
这个线宽其实就是跟光的线宽有关系，比如可见光的G线，那就是436nm，如果用来刻蚀，线路肯定很宽。
可以简单地认为，光刻机的光系统其实就是一支画笔，不同的光代表不同粗细大小的笔芯，越细的笔（光）能够画越细越复杂的画。
DUV就是彩笔，EUV就是中性笔，中性笔画的线条比较细，比较好用。
这么理解，也好理解光刻机到底如何刻蚀电路图了。
当前，国外品牌光刻机主要以荷蓝ASML，岛国Nikon和Canon三大品牌为主。
EUV的价格是1-3亿美金/台，DUV的价格为2000万—5000万美金/台不等。
目前先进的光刻系统就是EUV光刻机，如果沐阳打算走EUV光刻机路线，必然绕不开别人的技术专利保护范围。
因此，他只能寻找另外光种的光刻机，同时要考虑到光的分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等指标。
就说分辨率，如果制作出来的电路图模糊不清，那芯片肯定不好。
光刻机其它的指标，也可以比喻成画笔的性能就行了。
并不是说，沐阳不能搞光刻机了，只是说，再搞DUV和EUV光刻机，绕不开以上三家企业的技术专利保护范围。
所以，他只能另辟蹊径。
很久之前，沐阳就想到过电子束光刻机。
原本，再过几年，漂亮国的一个实验室研发出一套名为ZyvexLitho1的光刻系统，基于STM扫描隧道显微镜，使用的是EBL（E-Beam Lithography）电子束光刻方式，制造出了0.7nm线宽的芯片，只是没法实现批量生产，或者成本高过。
沐阳相信，如果是技术成熟的电子束光刻机，线宽比0.7nm更小。
他在系统商店普通货架上默念搜索“电子束光刻机”，很快，搜索出几款相关技术。
沐阳选择适合自己公司的一款技术：EBL01
技术参数：
1.最小线宽：小于1nm
2.加速电压：5-500kV
3.电子束直径：小于0.5nm
4.套刻精度：1nm（mean+0.2σ）
5.拼接精度：1nm（mean+0.2σ）
6.加工晶圆尺寸：4-18英寸
7.描电镜分辨率：小于0.2nm
主要特点：
1.采用超高亮度和超高稳定性的TFE电子枪；
2.出色的电子束偏转控制技术；
3.采用场尺寸调制技术，电子束定位分辨率可达0.0002nm；
4.采用轴对称图形书写技术，图形偏角分辨率可达0.002mrad；
5.应用领域广泛，如微纳器件加工，研究用掩膜制造，纳米加工（例如单电子器件、量子器件制作等），高频电子器件中的混合光刻，图形线宽和图形位移测量等。
……